XAD系列镀层测厚仪

XAD系列荧光光谱仪是一款全元素上照式光谱仪，可测量纳米级厚度、微小样品和凹槽异形件的膜厚，也可满足微区RoHS检测及多元素成分分析，先进的算法及解谱技术解决了诸多业界难题。    

  一、性能优势：    

1. 微小样品检测：最小测量面积0.0085mm2    

2. 变焦装置算法：可改变测量距离

测量面积：最小0.008mm2

镀层分析：23层镀层24种元素

仪器特点：RoHS卤素有害元素检测

仪器优势：全元素自动分析

服务宗旨：专注研发，专业生产，专精服务

  二、仪器简介：  

XAD是一款上照式全元素光谱分析仪，可测量纳米级厚度、微小样品和凹槽异形件的膜厚，也可满足微区RoHS检测及多元素成分分析，先进的算法及解谱技术解决了诸多业界难题。

被广泛用于各类产品的质量管控、来料检验和对生产工艺控制的测量使用。

  三、产品优势：  

微小样品检测：最小测量面积0.008mm2

变焦装置算法：可改变测量距离测量凹凸异形样品，变焦距离可达0-90mm

自主研发的EFP算法：AI(3)-U(92)元素的成分分析，Li(3)-U(92)元素的涂镀层检测，多层多元素，甚至有同种元素在不同层也可精准测量

先进的解谱技术：减少能量相近元素的干扰，降低检出限

高性能探测器：SDD硅漂移窗口面积20/50mm2探测器

X射线装置：微焦加强型射线管搭配聚焦装置

上照式设计：实现对超大样品或者密集点位进行快、准、稳高效率测量

可编程自动位移：选配自动平台，X210*Y230*Z145mm行程内无人值守自动测量

多准直器自动切换

  四、应用领域：  

广泛应用于电镀行业、通讯行业、汽车行业、五金建材、航空航天、环保检测、地质地矿、水暖卫浴、精密电子、珠宝首饰和古董、锂电行业等多种领域。

  五、多元迭代EFP核心算法（专利号：2017SR567637）

专业的研发团队在Alpha和Fp法的基础上，计算样品中每个元素的一次荧光、二次荧光、靶材荧光、吸收增强效应、散射背景等多元优化迭代开发出EFP核心算法，结合先进的光路转换技术、变焦结构设计及稳定的多道脉冲分析采集系统，只需要少量的标样来校正仪器因子，可测试重复镀层、非金属、轻金属、多层多元素以及有机物层的厚度及成分含量。

单涂镀层应用：如Ni/Fe、Ag/Cu等

多涂镀层应用：如Au/Ni/Fe、Ag/Pb/Zn等

合金镀层应用：如ZnNi/Fe、ZnAl/Ni/Cu等

合金成分应用：如NiP/Fe，通过EFP算法，在计算镍磷镀层厚度的同时，还可精准分析出镍磷含量比例。

重复镀层应用：不同层有相同元素，也可精准测量和分析。

如钕铁硼磁铁上的Ni/Cu/Ni/FeNdB，第一层Ni和第三层Ni的厚度均可测量。

有害元素检测：RoHS检测，可满足铅（Pb）、汞（Hg）、镉（Cd）、六价铬（Cr VI）等有害元素的成分检测及含量分析。

  六、技术参数：  

1. 成分分析范围：铝（Al）- 铀（U）

2. 成分最低检出限：1ppm

3. 涂镀层分析范围：锂（Li）- 铀（U）

4. 涂镀层最低检出限：0.005μm

5. 最小测量直径□0.1*0.3mm（最小测量面积0.03mm2）标配：最小测量直径0.3mm（最小测量面积0.07mm2）

6. 对焦距离：0-30mm

7. 样品腔尺寸：530mm*570mm*150mm

8. 仪器尺寸：550mm*760mm*635mm

9. 仪器重量：100KG

10. XY轴工作台移动范围：100mm*150mm

11. XY轴工作台最大承重：15KG